【概念细分】光刻机新增光源、光学系统细分方向
2025-09-19 18:00:01
来源：
同花顺iNews
作者：概念通知
【概念细分】光刻机新增光源、光学系统细分方向。
光源：光刻机光源是决定分辨率和制程精度的核心环节，主要分为DUV（KrF、ArF）和EUV两类。DUV光源仍是当前主流工艺的核心，广泛用于28nm至7nm制程；EUV光源则支撑7nm以下先进工艺，技术壁垒高。全球市场被少数厂商垄断，国内企业正加快研发，国产替代意义重大。
成分股如下：
| 股票名称 | 关联理由 |
|---|---|
| 波长光电 | 2025年9月10日互动易：光刻机领域被划分在公司产品应用的半导体及泛半导体领域，公司在该领域的产品有各类光学镜片、镜头、平行光源及光学子系统等。公司平行光源主要应用于接近式掩膜光刻。 |
| 茂莱光学 | 2024年9月25日互动易：公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。 |
| 芯碁微装 | 2025年9月10日互动易：在关键零部件核心技术攻关方面，公司攻坚克难，联合国内外顶尖科研力量，努力实现对高精度运动平台开发项目、先进激光光源、高精度动态环控系统、超大幅面高解析度曝光引擎、半导体设备前端系统模组（EFEM）、高稳定性全自动化线配套、基于深度学习算法的智能化直写光刻系统等领域进行深度研发，助力实现公司关键子系统、核心零部件自主可控。 |
光学系统：光刻机光学部件指直接参与光的传输和处理过程精密零部件。一台光刻机主要由以下系统组成：光学系统、曝光光源系统、双工作台、浸没系统、微电子系统、计算机系统、精密
机械系统和控制系统等。其中光学（002189）系统主要组成部分为光刻机的物镜系统，一般由 15～20 个直径为200～300mm 的透镜组成，用以补偿光源通过掩模版照射到附有光刻胶的硅片
表面时产生的光学误差，除此之外光学系统还包括反射镜、偏振器、滤光片、光阑等。光学系统是光刻机的核心，光刻机的最小工艺节点越小，对光学系统的精度要求越高，同时
价格更加昂贵，推高了第五代光刻机EUV的造价与售价。
成分股如下：
| 股票名称 | 关联理由 |
|---|---|
| 波长光电 | 2025年1月20日互动易：根据公司内部的营业收入分类口径，光刻机相关业务属于公司的半导体及泛半导体领域收入类别，产品主要包括反射镜、聚焦镜、场镜等一些光学元器件以及平行光源和一些小型光学系统，应用场景有接近式掩膜光刻、直写光刻、封装测试、半导体量检测等。其中光学元器件主要应用于光刻系统的光源内部以及外部的光路控制、直写光刻的照明和成像系统和量检测，平行光源主要应用于接近式掩膜光刻，其他光学系统根据客户需求进行定制化开发。 |
| 赛微电子 | 2023年9月14日互动易：公司一直为全球光刻机巨头厂商提供透镜系统MEMS部件的工艺开发与晶圆制造服务，该类业务一直为公司工艺门槛极高的优势业务 |
| 腾景科技 | 2023年半年报：公司合分束器项目应用于光刻机光学系统，可满足国产替代进口的需求。 |
| 茂莱光学 | 2024年9月25日互动易：公司为光刻机光学系统提供用于匀光、中继照明模块的光学器件、投影物镜，以及用于工件台位移测量系统的棱镜组件，是光刻机实现光线均匀性与曝光成像的核心模块。 |
点击进入光刻机（886054）查看更多细分。
0人
